此前荷兰的 ASML 已被限制对中国出售 EUV 光刻机，去年下半年以来各种限制陆续加码，到今年初 ASML 表示可以对中国出售的最先进的光刻机是 10 年前的 1980Di 光刻机。

而在近期，荷兰方面又发布了新出口管制条例，要求企业出口先进设备前需要获得许可证。新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。新规将在 9 月 1 日生效。

根据中国台湾省 DigiTimes 报道，ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令， 面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。

(资料图)

消息称如果该项目继续推进， 中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用 ASML 的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

这款专供中国市场的 DUV 光刻机基于老款 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，IT之家了解到， 1980Di 是 10 年前推出的老型号，不在本次官方禁令范围内。

1980Di 是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38 nm， 理论上可以支持 7nm 工艺。

大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机来生产 14nm 及以上工艺芯片，但是很少使用其生产 7nm 芯片。

不过在今日晚间，荷兰光刻机巨头 ASML 回应称：“一直以来 ASML 都遵守所适用的法律条例， 我们并没有面向中国市场推出特别版的光刻机”。

ASML 公布的业绩显示它在 2022 年出售的光刻机当中，有 14% 销往中国大陆市场，中国为 ASML 的第三大收入来源市场。

ASML 此前预计今年全球的芯片设备市场将出现萎缩，预计从 2022 年的 1076 亿美元跌至 900 亿美元，下滑一成左右。随着荷兰出口管制条例的出台，全球芯片设备市场预计萎缩幅度会更大，这 对 ASML 的营收会造成负面影响。

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